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蚀刻后清洗液
英文名称:PERR(GCCU/GCAL/GCTW/GCCO series)
纯度等级:Semi G4
包装规格:500ml瓶、4L瓶、200L桶
主要应用:半导体晶圆制造的蚀刻工艺后清洗
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化学机械抛光后清洗液
英文名称:Post CMP(GCPC series)
纯度等级:Semi G4
包装规格:500ml瓶、4L瓶、200L桶
主要应用:半导体晶圆制造的研磨后清洗工艺
产品详情
高纯氯气(Cl2)
英文名称:Chlorine
纯度等级:6N
包装规格:10L钢瓶、47L钢瓶、440L(Y钢瓶)、930L(T钢瓶)
主要应用:半导体晶圆制造的蚀刻工艺
产品详情
高纯氯化氢 (HCl)
英文名称:Hydrogen Chloride
纯度等级:6N
包装规格:47L钢瓶、440L(Y钢瓶)、880L(SY钢瓶)、管束车
主要应用:
半导体晶圆制造的蚀刻工艺
产品详情
高纯氟化氢(HF)
英文名称:Hydrogen Fluoride
纯度等级:5N
包装规格:40L钢瓶
主要应用:半导体晶圆制造的蚀刻工艺
产品详情
高纯一氟甲烷(CH3F)
英文名称:Fluoromethane
纯度等级:5N
包装规格:47L钢瓶
主要应用:半导体晶圆制造的蚀刻工艺
产品详情
高纯二氟甲烷(CH2F2)
英文名称:Difluoromethane
纯度等级:5N
包装规格:40L钢瓶、880L钢瓶
主要应用:半导体晶圆制造的蚀刻工艺
产品详情
高纯三氟甲烷(CHF3)
英文名称:Trifluoromethane
纯度等级:5N
包装规格:47L钢瓶
主要应用:半导体晶圆制造的蚀刻工艺
产品详情
高纯六氟乙烷(C2F6)
英文名称:Hexafluoroethane
纯度等级:5N
包装规格:47L钢瓶、440L(Y钢瓶)、880L(SY钢瓶)
主要应用:半导体晶圆制造的蚀刻工艺
产品详情
高纯八氟环丁烷(C4F8)
英文名称:Octafluorocyclobutane
纯度等级:5N
包装规格:47L钢瓶
主要应用:半导体晶圆制造的蚀刻工艺
产品详情
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