半导体晶圆制造的清洗、蚀刻工艺
电子级氢氟酸是半导体制造中的关键化学品之一，因其高纯度和强腐蚀性，在晶圆清洗工艺中用于去除氧化物层和与其他酸配合使用，去除金属离子等污染物；在蚀刻工艺中，用于高精度二氧化硅绝缘层或隔离层的蚀刻；用于离子注入后处理中去除掺杂玻璃层等半导体工艺中。本产品具有超高纯度、低颗粒物、浓度可控精度高等优点，可满足客户的多种包装要求。
