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半导体晶圆制造

金属蚀刻液(GEAL/GECO系列)

英文名称:Metal etchant(GEAL/GECO series)
纯度等级:Semi G4
包装规格:500ml瓶、4L瓶、200L桶
业务咨询
详细介绍
主要应用:半导体晶圆制造的铝蚀刻、钴蚀刻等工艺
金属蚀刻液用于半导体制程中的金属层,如Al、Cu、W、Ti、TiN等图形化,具有高选择性、低侧蚀、低残留物等优点。本产品可满足客户的配方和高品质的要求。

 

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