中巨芯科技股份有限公司--光刻后剥离液、清洗液

英文名称：stripper and photoresists cleans

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主要应用：去除、清洗光刻工艺后残留光刻胶

剥离液：用于去除光刻工艺后残留的光刻胶，为后续的工艺步骤做好准备；具有玻璃能力强、对基底材料兼容性好等特点。清洗液：对光刻后的基底材料进行清洗，以保证产品的质量和性能，具有清洗效果好、易漂洗等特点。

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