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前瞻性研发

新型蚀刻气体CxHyFz

英文名称:new etching gas CxHyFz
业务咨询
详细介绍
主要应用:高深宽比、高选择性蚀刻
新型蚀刻气体 CxHyFz(碳氢氟化合物)是半导体先进制程中替代传统全氟化合物的关键材料,尤其在3D NAND、FinFET和GAA等纳米级器件制造中表现出更高的选择比、更低的损伤和更好的环保特性。

 

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