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替代性研发

Ru金属基前驱体

Ru金属基前驱体

英文名称:Ru Precursor
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主要应用:Ru互连
在半导体先进制程中主要用于高介电常数材料和金属钛薄膜的原子层沉积与化学气相沉积工艺中应用。

 

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